GD-OES是辉光放电和光学发射光谱仪的首字母缩写。

顾名思义，辉光放电和光学发射光谱仪是GD-OES的主要组成部分。

GD-OES能够快速、灵敏的检测固体镀层样品中所有元素的表面/深度分布及含量。 辉光放电光谱仪能够快速提供固体材料中各元素随深度的分布状况。

虽然有些分子键也能在等离子体中观测并获得间接信息，

但辉光放电光谱仪主要测定的是元素。

且除同位素氘外，其他同位素也不可以测试。

辉光放电光谱仪能够分析70多种元素，包括H、Li、C、Cl、N、Ca和O等。

它主要是依赖等离子体在材料表面造成的受控腐蚀，然后测定不同穿透深度的元素分布。 受控腐蚀形成的溅射坑直径约为几毫米。

脉冲射频辉光放电源是一块非常先进并且功能强大的源，

它能够分析各种类型的镀层材料，导体/非导体、薄/厚膜。 无论是表征材料还是质量控制，脉冲射频辉光放电光谱仪都是一种快速、 可靠、灵敏的技术，几分钟内即可为您提供元素的深度剖析信息： *观测各层及交界面存在的元素及污染

*评估元素浓度水平是否正确

*检查深度分布的重复性并告知可能的偏差

*快速优化过程控制并确保仍处于控制下

*识別竞争对手的产品

*跟踪腐蚀的来源等

SPECTRUM TESTING TECHNOLOGY

脉冲射频辉光放电光谱仪可分析的镀层样品非常广泛，如薄/厚镀层、导体/非导体镀层。 下图列出了射频辉光放电光谱仪的主要应用范围，

举例： 涂镀在铁合金上的TiN/Ti2N复合镀层材料的元素深度剖析